硬件 ASML將赴韓國建EUV設備再制廠及培訓中心 預計2025年建成
據韓國經濟日報報導 , 5月13日韓國產業通商資源部(The Ministry of Trade, Industry and Energy , MOTIE)對外宣布 , 全球光刻機龍頭大廠艾司摩爾(ASML)計劃赴韓國打造EUV 再制造(remanufacturing)廠及培訓中心 。
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【硬件|ASML將赴韓國建EUV設備再制廠及培訓中心 預計2025年建成】據介紹 , ASML未來4年將在韓國投資2,400億韓元(2.1億美元) , 于京畿道華城市打造一座EUV光刻設備再制造廠以及一家培訓中心 。所謂再制造 , 是指通過必要的拆卸、檢修和零部件更換等 , 將廢舊產品恢復如新的過程 。
想要打造先進制程的半導體生產線 , 一定要設法取得關鍵半導體設備 。應用材料、ASML、泛林半導體、東京電子是全球前四大半導體設備廠商 , 總體的市占率高達60%左右 。問題是 , 這些半導體設備廠每年只能生產一定數量的機臺 , 交貨時間也比較長 。
特別是對于7nm以下先進制程所必須的EUV光刻機來說 , 目前ASML是全球唯一一家能夠生產EUV光刻機的半導體設備供應商 。但是目前ASML的EUV光刻機產能十分有限 , 一年只能生產30臺左右EUV光刻機 。據韓國媒體報道稱 , 目前臺積電已取得了50臺EUV設備 , 而三星僅有10臺 。
此次ASML計劃在韓國新建的EUV再制廠 , 主要用途就是為韓國當地運行的EUV光刻機維護、升級提供助力 。
據了解 , 韓國MOTIE及京畿道政府將針對ASML的授權、擴張當地業務事宜提供協助 。而上述設施預計2025年底前落成 , 未來將在韓國聘用超過300名專業人才 。
另外值得一提的是 , 報道還指出 , 目前美國半導體設備大廠泛林半導體(Lam Research Corp.)將擴大對韓國的投資南 。報道引述業界消息指出 , 泛林半導體已將韓國的生產目標提高一倍 , 正在尋找合適的地點建立新廠 , 以便擴充產能 。
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