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硬件 揭秘光刻膠產(chǎn)業(yè) 十四個(gè)中國玩家全公開( 四 )

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硬件 揭秘光刻膠產(chǎn)業(yè) 十四個(gè)中國玩家全公開
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▲日本四大光刻膠企業(yè)專利申請數(shù)
巨頭壟斷下的國產(chǎn)替代機(jī)會
近年來 ， 隨著半導(dǎo)體行業(yè)的蓬勃發(fā)展 ， 半導(dǎo)體材料需求旺盛 ， 光刻膠市場需求保持了良好的增長態(tài)勢 。根據(jù)工信部及研究機(jī)構(gòu) Cision 的報(bào)告顯示 ， 十三五期間 ， 國內(nèi)光刻膠市場實(shí)現(xiàn)年均 14.5% 增長 ， 五年平均復(fù)合增長率為 12.12% ， 2020 年全國光刻膠整體的市場規(guī)模達(dá)到 176 億元 ， 其中半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模達(dá)到 24.8 億元 。
ArF 光刻膠成為集成電路制造領(lǐng)域需求量最大的光刻膠產(chǎn)品 ， 隨著未來集成電路產(chǎn)業(yè)的進(jìn)一步發(fā)展 ， ArF 光刻膠面臨廣闊的市場機(jī)遇 。根據(jù)美國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會 SIA 的統(tǒng)計(jì) ， 2018 年高端 ArF 干式和浸沒式光刻膠占據(jù)了 42% 的市場份額 ， KrF 和 g 線 /i 線光刻膠分別占據(jù) 22% 和 24% 的市場份額 。
根據(jù)富士經(jīng)濟(jì)預(yù)測 ， 未來 ArF、 KrF 光刻膠將有穩(wěn)健的增長趨勢 ， 2023 年全球 ArF 光刻膠產(chǎn)能有望達(dá)到 1870 噸 ， 市場規(guī)模近 49 億元 。
從國內(nèi)市場看 ， 中國大陸晶圓廠建設(shè)將迎來高速增長期 ， 光刻膠作為晶圓生產(chǎn)的關(guān)鍵材料 ， 市場需求也將持續(xù)增加 。根據(jù)主要晶圓廠商官網(wǎng)披露的數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì) ， 未來五年在中國大陸新建至少 29 座晶圓廠 。
SEMI 預(yù)計(jì) ， 到 2020 年 ， 中國大陸晶圓廠裝機(jī)產(chǎn)能達(dá)到每月 400 萬片 8 寸等效晶圓 ， 年復(fù)合增長率為 12% ， 增長速度遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于其他地區(qū) ， 而 2015 年該產(chǎn)能僅為 230 萬片 。具體到 ArF 光刻膠應(yīng)用的 12 英寸晶圓來看 ， 根據(jù) IDC 及芯思想研究院（Chipinsights）統(tǒng)計(jì)：截至 2019 年 ， 我國 12 英寸晶圓制造廠裝機(jī)產(chǎn)能約 90 萬片 / 月 ， 預(yù)計(jì)至 2024 年 ， 我國 12 英寸晶圓廠在滿產(chǎn)情況產(chǎn)能將達(dá)到 273 萬片 / 月 ， 相比 2019 年增長超過 200% 。
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▲國內(nèi)光刻膠市場規(guī)模
高端光刻膠長期為國外企業(yè)壟斷的現(xiàn)狀 ， 對我國芯片制造造成“卡脖子”風(fēng)險(xiǎn) 。由于高端光刻膠的保質(zhì)期較短（通常只有 6-9 個(gè)月） ， 一旦遇到貿(mào)易沖突或自然災(zāi)害 ， 我國集成電路產(chǎn)業(yè)勢必面臨芯片企業(yè)短期內(nèi)全面停產(chǎn)的嚴(yán)重不利局面 。
同時(shí)光刻膠因特有的產(chǎn)業(yè)生態(tài)支撐作用而成為國家地區(qū)之間的博弈籌碼 ， 因此高端光刻膠國產(chǎn)化勢在必行 。
受制于國內(nèi)光刻膠技術(shù)發(fā)展水平 ， 目前我國高端光刻膠的自給率仍然保持較低水平 。盡管國內(nèi)光刻膠市場保持了良好的增長趨勢 ， 但以 KrF、 ArF 光刻膠為代表的半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域國內(nèi)市場份額仍然較小 ， 高端光刻膠市場長期為國外巨頭所壟斷 。
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▲國內(nèi)光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈
光刻膠上游原材料依賴進(jìn)口 。在光引發(fā)劑、樹脂等光刻膠重要原材料領(lǐng)域 ， 日本同樣具備較高的壟斷程度 。博康是國內(nèi)為數(shù)不多技術(shù)達(dá)標(biāo)而且能實(shí)現(xiàn)光刻膠上游材料國產(chǎn)化的企業(yè) 。
光刻機(jī)是研制高端光刻膠的重要設(shè)備 ， 但是光刻機(jī)設(shè)備售價(jià)高昂 ， 超出國內(nèi)大多廠商所能承受的范圍 ， 同時(shí)國外對出口光刻機(jī)的限制也進(jìn)一步加大了研發(fā)難度 。
光刻膠具有純度要求高、工藝復(fù)雜等特征 ， 需要具備多種技術(shù)和配方 ， 包括光化學(xué)、有機(jī)合成等技術(shù) ， 以滿足差異化需求 ， 而這些技術(shù)的形成需要長期的研發(fā)和經(jīng)驗(yàn)積累 。
我國進(jìn)入光刻膠領(lǐng)域的時(shí)間較短 ， 與日本龍頭企業(yè)存在較大差距 ， 且大量專利技術(shù)掌握在海外龍頭企業(yè)手中 ， 存在極高的技術(shù)壁壘 。
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▲中國光刻膠企業(yè)國產(chǎn)化進(jìn)程
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▲國家出臺多項(xiàng)政策 ， 大力扶持光刻膠產(chǎn)業(yè)
晶瑞股份：國內(nèi)光刻領(lǐng)域的先驅(qū) 。公司圍繞泛半導(dǎo)體材料和新能源材料兩個(gè)方向 ， 主導(dǎo)產(chǎn)品包括光刻膠及配套材料、超凈高純試劑、鋰電池材料和基礎(chǔ)化工材料等 ， 廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、新能源、基礎(chǔ)化工等行業(yè) ， 主要應(yīng)用到下游電子產(chǎn)品生產(chǎn)過程的清洗、光刻、顯影、蝕刻、去膜、漿料制備等工藝環(huán)節(jié) 。

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