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▲全球面板光刻膠占比
PCB 光刻膠主要使用的有干膜光刻膠、濕膜光刻膠、感光油墨等 。
PCB 用干膜與濕膜光刻膠各有特點 。從總體上來說 ， 濕膜具有分辨率高 ， 成本低廉 ， 顯影與刻蝕速度更快等優(yōu)勢 。因此 ， 在 PCB 應用中 ， 濕膜光刻膠正逐漸實現(xiàn)對干膜光刻膠的替代 。
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▲PCB 三大油墨區(qū)別
光刻膠自 1959 年被發(fā)明以來就成為半導體工業(yè)最核心的工藝材料之一 。隨后光刻膠被改進運用到印制電路板的制造工藝 ， 成為 PCB 生產(chǎn)的重要材料 。
二十世紀 90 年代 ， 光刻膠又被運用到平板顯示的加工制作 ， 對平板顯示面板的大尺寸化、高精細化、彩色化起到了重要的推動作用 。
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▲光刻膠的歷史變遷
半導體光刻膠隨著市場對半導體產(chǎn)品小型化、功能多樣化的要求 ， 而不斷通過縮短曝光波長提高極限分辨率 ， 從而達到集成電路更高密度的集積 。隨著 IC 集成度的提高 ， 世界集成電路的制程工藝水平早已由微米級進入納米級 。
為適應集成電路線寬不斷縮小的要求 ， 光刻膠的波長由紫外寬譜向 g 線 (436nm)→i 線 (365nm)→KrF (248nm)→ArF (193nm)→F2 (157nm)→EUV (13.5nm) 的方向轉移 ， 并通過分辨率增強技術不斷提升光刻膠的分辨率水平 。
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▲IC 集成度與光刻技術發(fā)展歷程
據(jù) SEMI 的統(tǒng)計數(shù)據(jù)顯示 ， 2016-2019 年 ， 全球半導體光刻膠的市場規(guī)模從 15 億美元增長至 2019 年的 18 億美元 ， 年復合增速達 6.3% ， 據(jù)此預測 ， 2020 年 ， 全球半導體光刻膠市場規(guī)模約為 19 億美元 。
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▲2016-2020 全球半導體光刻膠市場規(guī)模
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▲ 2018-2021 全球半導體市場銷售額
全球面板產(chǎn)業(yè)鏈產(chǎn)能轉移經(jīng)歷了 3 個時期 。2000 年前是由日本和韓國主導的全球 TFT-LCD 產(chǎn)業(yè)發(fā)展 ， 但同時期全球出貨量第一是三星；2000-2010 年 ， 日本向中國臺灣地區(qū)技術轉移 ， 以京東方為代表的企業(yè)通過并購開始快速發(fā)展液晶面板；2010 年后 ， 日本多家廠商退出 LCD 產(chǎn)業(yè) ， 韓國則將重心轉移至 OLED ， 中國的 LCD 面板產(chǎn)能占據(jù)全球第一 。
近年來隨著多條 G8.5/G8.6 以及 G10.5 代線的先后量產(chǎn) ， 中國 LCD 產(chǎn)能保持高位增長 ， 2019 年 LCD 總產(chǎn)能達到 1.1 萬億平方米 ， 穩(wěn)居全球第一 。
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▲ 2020 年全球 LCD 產(chǎn)能區(qū)域結構
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▲ 全球 LCD 光刻膠市場規(guī)模（億元）
光刻膠世界產(chǎn)業(yè)格局
光刻膠屬于高技術壁壘材料 ， 需要與光刻機配合使用 ， 生產(chǎn)復雜 ， 純度要求高 ， 需要長期技術積累 。光刻膠產(chǎn)業(yè)是典型的技術和資本雙密集型產(chǎn)業(yè) ， 其中 ， 半導體光刻膠的生產(chǎn)難度最大 。光刻膠市場主要由日本和美國壟斷 ， 其中日本占比 72% ， 而大陸企業(yè)市占率不足 13% 。
2019 年 ， 全球光刻膠整體市場約 82 億美元 。根據(jù) Reportlinker 機構的預測數(shù)據(jù) ， 2019-2026 年全球光刻膠消費量的復合年增長率為 6.3% ， 至 2026 年 ， 全球光刻膠市場規(guī)模將突破 120 億美元 。
據(jù) SEMI 的數(shù)據(jù) ， 2019 年全球半導體光刻膠的市場規(guī)模為 18 億美元 ， 2016-2019 年復合增速達 6.3% 。據(jù)此預測 ， 2020 年全球半導體光刻膠市場規(guī)模約 19 億美元 。
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