光刻機(jī)采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上 。那么光刻機(jī)性能指標(biāo)是什么呢?
光刻機(jī)性能指標(biāo)是什么1、光刻機(jī)的主要性能指標(biāo)有:支持基片的尺寸范圍,分辨率、對(duì)準(zhǔn)精度、曝光方式、光源波長(zhǎng)、光強(qiáng)均勻性、生產(chǎn)效率等 。
2、分辨率是對(duì)光刻工藝加工可以達(dá)到的最細(xì)線條精度的一種描述方式 。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統(tǒng)、光刻膠和工藝等各方面的限制 。
3、對(duì)準(zhǔn)精度是在多層曝光時(shí)層間圖案的定位精度 。
4、曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式 。
5、曝光光源波長(zhǎng)分為紫外、深紫外和極紫外區(qū)域,光源有汞燈,準(zhǔn)分子激光器等 。
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