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硬件 南大光電高端ArF光刻膠獲得突破 未來可用于7nm工藝

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在半導體制造上，國內(nèi)廠商需要突破的不只是光刻機等核心設備，光刻膠也是重要的一環(huán) 。南大光電日前宣布，該公司研發(fā)的高端ArF光刻機已經(jīng)獲得了國內(nèi)某企業(yè)的認證，用于55nm工藝制造 。
硬件 南大光電高端ArF光刻膠獲得突破 未來可用于7nm工藝
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南大光電于5月31日晚間發(fā)布公告，控股子公司寧波南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠繼2020年12月在一家存儲芯片制造企業(yè)的50nm閃存平臺上通過認證后，近日又在邏輯芯片制造企業(yè)55nm技術(shù)節(jié)點的產(chǎn)品上取得了認證突破，表明公司光刻膠產(chǎn)品已具備55nm平臺后段金屬布線層的工藝要求 。
不過南大光電沒有透露具體的客戶名字 。
在光刻機市場上，國內(nèi)自給率極低，歐美日等地區(qū)的廠商占據(jù)主要份額，JSR、信越化學等TOP5廠商占據(jù)全球87%的份額 。
光刻膠有不同的技術(shù)類別，低端的中g(shù)線/i線光刻膠自給率約為20%，KrF光刻膠自給率不足5%，而高端的ArF光刻膠完全依賴進口，是國內(nèi)半導體的卡脖子技術(shù)之一 。
雖然南大光電的ArF光刻膠現(xiàn)在通過的是55nm工藝認證，但ArF光刻膠涵蓋的工藝技術(shù)很廣，可用于90nm-14nm甚至7nm 技術(shù)節(jié)點制造工藝，廣泛應用于高端芯片制造（如邏輯芯片、 存儲芯片、AI 芯片、5G 芯片和云計算芯片等） 。
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