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g線、i線主要用于250nm以上工藝 ， 相對(duì)落后；KrF一般用于250nm-130nm工藝；ArF一般用于130nm-14nm ， 最多可以用于7nm DUV工藝；EUV光刻膠就是配合EUV光刻機(jī) ， 主要用于7nm及以下工藝 。
在光刻膠領(lǐng)域 ， 國(guó)內(nèi)是比較落后的 ， 總體自給率不足10% ， 其中分開(kāi)來(lái)看 ， g線/i線自給率約為20% ， KrF光刻膠的自給率不足5% ， 至于ArF、EUV光刻膠 ， 不好意思 ， 無(wú)法生產(chǎn) ， 100%得靠進(jìn)口 ， 自給率為0% 。
而日本是全球光刻膠領(lǐng)域最牛的國(guó)家 ， 在g線/i線、KrF、ArF、EUV膠市場(chǎng)中市占率分別為61%、80%、93% ， 100% 。
所以日本廠商的光刻膠是全球的緊缺貨 ， 一旦日本不供應(yīng)光刻膠 ， 全球的芯片產(chǎn)業(yè)都要受到影響 。
而近日 ， 這樣的事情終于發(fā)生了 ， 據(jù)媒體報(bào)道稱 ， 由于KrF光刻膠產(chǎn)能受限 ， 而全球芯片產(chǎn)能卻不斷擴(kuò)產(chǎn) ， 再加上2月份的日本福島地震 ， 影響了光刻膠的產(chǎn)能 。
所以日本的信越化學(xué)開(kāi)始中國(guó)大陸多家一線晶圓廠限制供貨KrF光刻膠 ， 甚至開(kāi)始向部分中小晶圓廠停供KrF光刻膠 ， 后續(xù)可能還會(huì)有更多的廠商 ， 甚至?xí)可娴紸rF光刻膠的供應(yīng) 。
而KrF用于250nm-130nm工藝 ， ArF用于130nm-14nm工藝 ， 這也正是國(guó)內(nèi)眾多晶圓廠使用的工藝 ， 業(yè)內(nèi)人士預(yù)測(cè)未來(lái)國(guó)內(nèi)多家晶圓廠或?qū)⒚媾RKrF、ArF光刻膠大缺貨的處境 。
目前中國(guó)正在大力發(fā)展半導(dǎo)體 ， 不知道這件事情 ， 有沒(méi)有讓大家感受到絲絲涼意？
【光刻膠|危機(jī)出現(xiàn)，日本企業(yè)部分?jǐn)喙┕饪棠z，國(guó)產(chǎn)自給率不到10%】事實(shí)上 ， 在半導(dǎo)體材料、半導(dǎo)體設(shè)備等領(lǐng)域 ， 目前國(guó)內(nèi)的產(chǎn)業(yè)鏈確實(shí)還是比較落后的 ， 依賴國(guó)外的地方也比較多 ， 所以接下來(lái) ， 我們不僅僅要發(fā)展芯片制造本身 ， 還需要加強(qiáng)對(duì)上游材料、設(shè)備等的重視和投入 ， 你覺(jué)得呢？
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